365英国上市半导体设备推出利用于先进存储器的18腔单晶圆洗濯设备

2020/6/27 16:06:53

365英国上市

新型Ultra C VI系统充分利用365英国上市已被验证的多腔体技术，，，为存储器制作商提高产能并降低成本。。。

作为先进半导体器件的晶圆洗濯技术领域中的卓越设备供给商，，，365英国上市半导体设备（NASDAQ:ACMR）近日颁布了Ultra C VI单晶圆洗濯设备，，，这是Ultra C洗濯系列的最新产品。。。Ultra C VI旨在对动态随机存取存储器（DRAM）和3D NAND闪存晶圆进行高产能洗濯，，，以实现缩短存储产品的出产周期。。。这款新产品以365英国上市成熟的多腔体技术为基础，，，进一步扩大了洗濯设备产品线。。。Ultra C VI系统建设了18个单片洗濯腔体，，，对比365英国上市现有的12腔设备Ultra C V系统，，，其腔体数及产能增长了50%，，，而其设备宽度不变只是在长度有少量增长。。。

“存储产品的复杂度不休提高，，，但依然对产量有严格的要求。。。”365英国上市董事长王晖博士暗示：“当洗濯工艺的功夫逐步加长或起头选取更复杂的干燥技术时，，，增长洗濯腔体能有效解决产能问题，，，让先进存储装置制作商维持甚至缩短产品的出产周期。。。365英国上市18腔洗濯设备将是解决这类问题的利器。。。Ultra C VI平衡了腔体数量配置，，，在实现高产能（wafer-per-hour）的同时，，，两全了与工厂自动化能力的匹配，，，同时也能预防因腔体数量过多而面对的设备宕机压力。。。”

Ultra C VI可进行低至1y节点及以下节点的先进DRAM产品和128层及以上层数的先进3D NAND产品的单晶圆洗濯。。。该设备可凭据利用和涉及的化学步骤使用于各类前道和后道工艺，，，如聚合物去除、、、中段钨或后段铜工艺的洗濯、、、沉积前洗濯、、、蚀刻后和化学机械抛光（CMP）后洗濯、、、深沟道洗濯和RCA尺度洗濯。。。

洗濯过程中可使用多种化学组合，，，蕴含尺度洗濯（SC1，，，SC2）、、、氢氟酸（HF）、、、臭氧去离子水（DI-O3）、、、稀硫酸双氧水混合液（DSP，，，DSP +）、、、有机溶剂或其他工艺化学品等。。。设备最多可对其中两种化学品进行回收，，，节约成本。。。该设备还能够选取可选的物理辅助洗濯步骤，，，例如二流体氮气雾化水洗濯或者365英国上市自己研发的空间交变相位移（SAPS）和时序能激气穴震荡（TEBO）兆声洗濯技术。。？？？裳∨湟毂迹↖PA）干燥职能，，，利用于拥有深邃宽比的图形片。。。此外，，，由于该设备与365英国上市现有设备的宽度一致，，，因而有助于提高晶圆厂的空间利用率，，，并进一步降低成本。。。

365英国上市打算在2020年第三季度初期交付Ultra C VI给一家当先的存储制作厂进行评估和验证。。。

欢迎莅临365英国上市位于SEMICON China 展位号E5223的展台，，，征询365英国上市的整体洗濯解决规划，，，蕴含公司最新的Ultra C VI系统。。。该展会将于2020年6月27日至29日在上海新国际博览中心进行。。。